BENEQ是ALD之家。他們提供兩大產品：ALD解決方案和Lumineq顯示屏。BENEQ原子層沉積ALD解決方案提高了功率器件和光學器件的性能和耐用性。BENEQ氣溶膠設備光學鍍膜 、 原子層沉積、BENEQ氣溶膠鍍膜、 裝飾性鍍膜 、BENEQ透明導電氧化物、 顆粒鍍膜、BENEQ 生物相容性鍍膜等都是他們的主要產品。今天小編將為大家分享有關BENEQ,芬蘭BENEQ氣溶膠設備,BENEQ原子層沉積的內容：

一、BENEQ公司簡介：
BENEQ是ALD之家。他們提供兩大產品：ALD解決方案和Lumineq顯示屏。BENEQ原子層沉積ALD解決方案提高了功率器件和光學器件的性能和耐用性。在新興的半導體，物聯網，5G和汽車應用中，它們具有無形的優勢。BENEQ Lumineq®顯示屏是全球透明度最高的顯示屏。與其他任何類型的顯示器相比，Lumineq加固顯示屏更適用于嚴苛的極端環境。全球百強企業中，有27家都是BENEQ的老客戶。

二、BENEQ公司產品簡介：
1.BENEQ氣溶膠設備：
①擁有緊湊型結構和優質的ALD反應器。采用人體工程學設計，提高設備性能和操作效率。模塊化設計便于快速升級和維護。標準熱ALD設定。
②因客戶配置和附件而異，定制屬于您的R2，4個液體源。使用標準50毫升世偉洛克容器。單晶圓反應腔。
③備件和消耗品套件。包裝以及CIP運輸至機場。設備調試和啟動（包括現場3天）。

2.BENEQ生物相容性鍍膜：
①BENEQ TFS 200是一款適用于科學研究和企業研發的最靈活的ALD平臺。BENEQ TFS 200是為多用戶研究環境中將可能發生的交叉污染降至最低而特別設計的。各種配置選項和升級意味著BENEQ TFS 200將與您一起成長，以滿足高標準的研發需求。
②BENEQ TFS 200不僅可以在晶圓，平面物體上鍍膜，還適用于粉末，顆粒，多孔的基底材料，或是有高深徑比的3D物體內沉積高保形薄膜。
③直接和遠程等離子體沉積(PEALD)可作為BENEQ TFS 200的標準選項。等離子體是電容性耦合(CCP)，這是當今的工業標準。等離子體選件可為直徑200毫米的基板（面朝上或面朝下）提供直接和遠程等離子體增強沉積(PEALD)。

3.BENEQ裝飾性鍍膜：
①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和傳感器、RF、LED、光學和高級封裝應用的一站式ALD解決方案。其采用全新的集群設計，即在一個全自動平臺上將熱法和等離子ALD與單晶圓和批量工藝相結合，從而為客戶提供了卓越的靈活性。它專有的預熱模塊可減少數小時的等待時間，并將生產量提升到一個全新的水平：熱模式下15 wph 50 nm Al2O3。
②該產品還新增了多達2個熱處理或等離子體模塊，從而進一步提高產能。BENEQ Transform™Lite和體型更大的Transform™一樣，可提供熱法和等離子ALD工藝及預熱模塊。從研發、原型設計到批量生產，BENEQ Transform™Lite在整個工藝中都能發揮有效的作用。它能進行表面預處理，在3至8英寸的晶圓基底材料上進行鍍膜。如今通過Transform™Lite，客戶可以選擇在多個設備和應用程序上操作不同的ALD工藝。而所有這一切都是在一個平臺上完成的！
③真正的多功能性，熱法和等離子ALD。單晶圓和批量工藝。最廣泛的高性能氧化物和氮化物。這些組合最大限度地提高了批量生產的靈活選擇。

4.BENEQ原子層沉積：
①適用于工業OLED封裝的ALD系統，BENEQ WCS 600是用于研發和試生產的卷對卷原子層沉積系統，特別適用于AMOLED顯示屏、OLED照明、柔性光伏電池、電池和柔性玻璃鍍膜的應用。將高品質原子層沉積膜連續沉積到柔性基底卷上，如聚合物、金屬或紙。
②對敏感基底的加工溫度較低（<150℃），具有廣泛的工作壓力范圍，適用于線路集成。系統沉積速度具有高度拓展性，可達到10米/分鐘。

三、BENEQ公司產品型號：
①BENEQ M2048-B-SP
②BENEQ T560-521-312
③BENEQ AM206-12
④BENEQ GS65.40-40
⑤BENEQ 03193-4712040

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